机译:HF / HNO $ _3 $和KOH溶液中的深湿蚀刻对351 nm熔融石英光学元件的抗激光损伤性和表面质量的影响
机译:HF / HNO 3 sub>和KOH溶液中的深湿蚀刻对351 nm熔融石英光学器件的抗激光损伤性和表面质量的影响
机译:抛光引起的表面杂质缺陷对熔融石英光学元件抗激光损伤的影响以及用HF酸腐蚀去除
机译:抛光诱导的地下杂质缺陷对熔融二氧化硅光学激光损伤性的影响及其用HF酸蚀刻去除
机译:动态蚀刻对熔融二氧化硅光学表面质量和激光损伤性的影响
机译:使用准分子激光(248 nm)对硼硅酸盐玻璃进行微加工,并通过激光诱导对石英进行背面湿蚀刻。
机译:反应离子刻蚀过程中紫外激光损伤对熔融石英光学器件中污染物浓度的影响
机译:HF / HNO $ _3 $和KOH溶液中的深湿蚀刻对351 nm熔融石英光学器件的抗激光损伤性和表面质量的影响